MetroFrame · Messtechnik
Waferadapter für die Messtechnik
MetroFrame bildet die Handlingschnittstelle zwischen einem kleineren Substrat und einer Messanlage. Messmethode, Substratgeometrie und Geräteschnittstellen bestimmen die Anforderungen.
Anforderungen besprechen
KI-bearbeitetCD-SEM, Schichtwiderstandsmessung und Defektinspektion stellen unterschiedliche Anforderungen an Platzierung, Kontakt und Handling. Zielgerät und Messmethode bestimmen die Adapterprüfung.
Der Handlingablauf umfasst Kassette, Roboter, Chuck, Ausrichtung sowie Be- und Entladung. Messflächen und Bereiche mit eingeschränktem Kontakt sind Teil der Prüfung.
Platzierungstoleranz, Wiederholbarkeit, Kontaktbeschränkungen und Abnahmekriterien bestimmen die Bewertung der gewählten Konfiguration.
Kassette und Schnittstelle im Detail
Die fotografierte Anordnung sitzt in einem Kassettenfach. Kassettengeometrie, Roboterübergaben und Chuckschnittstellen werden für die Zielanlage gemeinsam bewertet – nicht pauschal als austauschbar vorausgesetzt.
KI-bearbeitet
KI-bearbeitetAngaben für eine Messtechnik-Anfrage
- •Substratmaterial, Geometrie und Kontaktbeschränkungen
- •Zielgerät und Messmethode
- •Platzierungs- und Wiederholbarkeitsanforderungen
- •Kassetten-, Roboter- und Chuckschnittstellen
- •Abnahmekriterien und erforderliche Ergebnisse
Was wir gemeinsam prüfen
| Technischer Bereich | Angaben zu Ihrer Anwendung |
|---|---|
| Substrat | Material, Durchmesser oder Form, Dicke und Kontaktbeschränkungen |
| Zielanlage | Anlagenmodell, Carrierformat, Kassetten-, Roboter- und Chuckschnittstellen; nötige Änderungen |
| Platzierung und Fixierung | Ausrichtung, Platzierungstoleranz und Halt während der vorgesehenen Prozessfolge |
| Prozessbedingungen | Relevante Chemie, Konzentration, Temperatur, Einwirkzeit, Rotation oder Vakuumbedingungen |
| Handling | Be- und Entladung, manuelle oder automatische Übergaben und Kontaminationsanforderungen |
| Abnahme | Abnahmekriterien und erforderliche Prüfergebnisse |
Vor Ihrer Anfrage
Informieren Sie sich über Messtechnik und Nassprozessentwicklung.
Beschreiben Sie Ihr Substrat und Ihre Zielanlage. Sind mehrere Anlagen beteiligt, nennen Sie die Prozessschritte.
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